美國Trion 薄膜沉積系統(tǒng)
價 格：詢價
產 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Orion III PECVD
狀 態(tài)：正常點擊量：2589
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| 美***反應式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng) |
| Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業(yè)內以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。 Trion提供升***及回收方案給現(xiàn)有客戶。 |
美***Trion Orion III PECVD 薄膜沉積系統(tǒng)
可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。獨特的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實驗室和中試生產環(huán)境中的所有安全，設施和工藝標準要求。
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)具有許多標準的需求功能，而且是這樣***個如此合理價格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)的選擇。
特征：
沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。
工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮
應用：
MEMS, 固態(tài)照明，失效分析，研發(fā)，試驗線.
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
